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  • RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備
    RIE-10NR日本SAMCO RIE等離子蝕刻設備
    型號:RIE-10NR
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    RIE-10NR是一種新型的低成本、高性能、全自動(dòng)反應離子刻蝕系統,能夠滿(mǎn)足非腐蝕性氣體化學(xué)最ke刻的工藝要求。 計算機化觸摸屏為工藝配方編程和存儲提供了用戶(hù)友好的界面。該系統可以實(shí)現精確的側壁輪廓控制和材料之間的高蝕刻選擇性。憑借其圓滑、緊湊的設計,RIE-10NR只需要很小的潔凈室空間。

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  • Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80
    Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80
    型號:
    瀏覽量:1302

    Oxford RIE反應離子刻蝕機PlasmaPro 80是一種結構緊湊、小尺寸且使用方便的直開(kāi)式系統,可以提供多種刻蝕和沉積的解決方案。 它易于放置,便于使用,且能確保工藝性能。直開(kāi)式設計可實(shí)現快速晶圓裝卸,是研究和小批量生產(chǎn)的理想選擇。 它通過(guò)優(yōu)化的電極冷卻和出色的襯底溫度控制來(lái)實(shí)現高質(zhì)量的工藝。

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